ガスクラスターイオンビーム（GCIB）応用装置
本ＧＣＩＢ装置は標準機として、三室構造をしており、クラスター生成・イオン化及び静電レンズ/モノマー除去機能がプロセス室と独立して収納されているのでプロセス室の開閉時に大気にさらされる事無く安定な稼働が長期に渡って期待出来ます。ＧＣＩＢ機能としてはCVDダイアモンドやWC等の難加工材料から有機材料まで幅広く表面の超平滑化加工が可能です。ビームは最大５０KVまでの加速実績があり、またビーム径もサブミリメートル（１σ）まで絞った実績が有り同ビームに依る超平滑化トリミング加工が可能です。 また、低エネルギーGCIBアシストに依る高品位薄膜成膜も可能ですので、エッチングから成膜まで広範囲のプロセス・製品開発から生産までお客様のご要望に対応させて頂きます。
イオンビームスパッタリング装置
本IBS装置は大型（～16cmグリット）RFイオンソースを２台装備しイオンアシスト成膜が出来るIBS成膜装置です。弊社の長い経験に基づく完成度の高い装置で、高品位な光学多層膜の形成及び高精度光学モニタと高精度な成膜制御により任意なフィルタ特性を持つ光学多層膜の形成が出来ます。応用分野は高難度の光通信用フィルターから超低損失・高耐性光学薄膜の形成・生産に適しています。
