ABOUT IIPT
ガスクラスターイオンビーム・イオンビームスパッタリング技術などの研究開発から販売までを手がける会社です。
最先端テクノロジー・地球環境・医療福祉など新しい応用分野へ果敢に挑戦します。
製品情報
ガスクラスターイオンビーム（GCIB）応用装置
本ＧＣＩＢ装置は標準機として、三室構造をしており、クラスター生成・イオン化及び静電レンズ/モノマー除去機能がプロセス室と独立して収納されているのでプロセス室の開閉時に大気にさらされる事無く安定な稼働が長期に渡って期待出来ます。
イオンビームスパッタリング装置
本IBS装置は大型（～16cmグリット）RFイオンソースを２台装備しイオンアシスト成膜が出来るIBS成膜装置です。弊社の長い経験に基づく完成度の高い装置で、高品位な光学多層膜の形成及び高精度光学モニタと高精度な成膜制御により任意なフィルタ特性を持つ光学多層膜の形成が出来ます。応用分野は高難度の光通信用フィルターから超低損失・高耐性光学薄膜の形成・生産に適しています。
取り扱いメーカー
Plasma Process Group
米国のPlasma Process Group 社は、イオンビームを使ったプロセス装置のメーカーです。特に同社の Techne は、イオンビームスパッタリングプロセスを使用して、オングストロームレベルで層を制御して高品質の光学コーティングを生成する薄膜蒸着ツールです。
光学系は、システムドアの固定具に取り付けられた基板ホルダーにロードされます。 レシピはプログラムされ、タッチスクリーン上で実行されるため、この完全に自動化されたシステムは、最も困難な光学設計を実装することができます。
※同社のHPより、左図参照。